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双级反渗透+EDI

名称:

双级反渗透+EDI

分类:

反渗透设备

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  详细说明


双级反渗透+EDI

 

 

 

EDI技术的出现改变了制备高纯水只能采用混床的局面。一般混床工作时需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品(酸碱)和纯水,并造成一定的环境问题;而膜、树脂和电化学原理相结合的EDI技术确因为其水质稳定、容易实现全自动控制、不会因再生而停机、不需化学再生、运行费用低、厂房面积小、无污水排放等优点而被广泛使用。 相对于混床来EDI系统的进水要求要求高些一般要求进水电导率在40μS/cm2以下,最好为二级反渗透出水,现阶段也有很多采用一级反渗透作为EDI预处理的成功应用案例。总体来说该方法与混床相比优势明显但在一次性投资上还是有些劣势。

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采用反渗透预处理+EDI制作超纯水,其电导率一般可达到17MΩ.CM以上,工业上广泛应用于电厂锅炉、军工、医药、电子、机械等工业领域。

1、反渗透简介:RO(反渗透)系统的脱盐率一般在97%以上,反渗透膜的脱盐率最高可达99.8%。通过反渗透膜的处理,水中的无机盐类、细菌、病毒、糖类、氨基酸、CODBOD等杂质被去除,从而达到纯化和浓缩的目的。

2EDI简介:EDI可代替传统的混合离子交换技术(MB-DI)生产稳定的去离子水。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点:

水质稳定

容易实现全自动控制

不会因再生而停机

不需化学再生

运行费用低

厂房面积小

无污水排放  

EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm25℃)EDI纯水电阻率可以高达17MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的纯水。

EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

双级反渗透+EDI高纯水系统主机 

EDI组件电流量和离子迁移量成正比。电流量由两部分组成,一部分源于被除去离子的迁移,另一部分源于水本身电离产生的H+0H-,这些就地产生的H+0H-对离子交换树脂进行连续再生。EDI组件中的离子交换树脂可以分为两部分,一部分称作工作树脂,另一部分称作抛光树脂,二者的界限称为工作前沿。工作树脂主要起导电作用,而抛光树脂在不断交换和被连续再生。工作树脂承担着除去大部分离子的任务,而抛光树脂则承担着去除象弱电解质等较难清除的离子的任务。 

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